各種膜厚測定システム一覧 - （卓上型）分光エリプソメータ,反射分光膜厚計,膜厚モニター,膜厚測定システム,大型サンプル対応,組み込み型- 大塚電子株式会社

研究開発用の標準製品から、製造装置のライン搬送系、ロボット、お手持ちの検査用システム、治具など
さまざまな用途に取り付けが可能な特注製品まで、各種ご要望に応じたシステムをご提案いたします。

● 薄膜・厚膜
● 多層膜

● 屈折率（n）
● 消衰係数（k）

● エリプソパラメータ
　　（cosΔ,tanΨ）

● 反射率・透過率
● 色度
● 輝度（微小スポット）

*1 大型ステージ、ローダーなど組み込んだ装置の設計・製造も可能です。
*2 対応するサンプルサイズは、仕様により異なります。
*3 上記測定項目に加え、他の用途にも応用できます。
*4 最小サンプルについてはお問い合わせください。

薄膜から厚膜まで！
大型ステージなど高い拡張性有

膜厚レンジ	1nm～1mm
測定波長範囲	230nm～1600nm

超薄膜・多層膜などの高精度測定
大型ステージなど高い拡張性能有

膜厚レンジ	0.1nm～1μm
測定波長範囲	250nm～2000nm

コンパクト・低価格・高性能！
簡単操作で高精度膜厚測定

膜厚レンジ	10nm～1.5mm
測定波長範囲	300nm～1600nm

コンパクト・低価格・高性能！
紫外から近赤外まで幅広く対応

膜厚レンジ	0.1nm～1μm
測定波長範囲	250nm～2000nm

製造ライン上でリアルタイム測定！
遠隔測定・多点測定

膜厚レンジ	20nm～240μm
測定波長範囲	430nm～1600nm

オプティカルファイバーと多彩なオプションユニットで自由な測定系

膜厚レンジ	0.8μm～1mm
測定波長範囲	230nm～1600nm

お客様のニーズに合わせた特注膜厚計測装置の提案、設計・製造、設置まで一貫して自社で行っております。
大塚電子の高度な技術、豊富な実績、安心のサポート体制により、高品質な製品をご提供いたします。

FPD用膜厚測定システム

進化しつづけるFPDの製造工程で各種薄膜を評価･分析

さまざまなガラス基板上の各種薄膜の膜厚や光学定数を、高速かつ高精度に測定できます。次世代サイズを含む大型ガラス基板に対応するほか、LCD、TFT、や有機ELにも対応します。

【用　途】
・LCD	ITO/Glass、PI/OC/Glass、CF/Glass、Resist/Glass
・TFT	SiN/a-Si/Glass
・有機EL	有機EL/ITO/Glass
・PDP	誘電体層/Glass

半導体用膜厚測定システム

φ300mmウェハ対応全自動搬送付仕様

R&Dから半導体量産ラインまで幅広い用途に対応可能な膜厚測定システムです。各社ローダー/アンローダーに対応可能です。サンプル1枚あたり5ポイント測定を30秒以下で実現します。

【用　途】
・Si半導体ウェハ膜	SiO2/Si、Resist/Si、SiO2/a-Si、SiO2/SiN/SiO2
・半導体膜	TEOS、SiNX、SiOx など
・化合物半導体	GaAs、GaN、InGaAs など
・その他	光学材料、誘導体パラメータ、金属膜など

遠隔測定、多点測定などニーズに応じたシステムを、お客様の生産ライン上に構築できます。
生産ラインの工程に組み込むことで、全数検査が可能になります。

組み込み型システム

・半導体ウェハの面内分布測定
・ガラス基板の面内分布測定
　

・リアルタイム計測
・流れ方向の品質管理
・真空チャンパーにも対応

・リアルタイム計測
・幅方向の品質管理
　