絶対反射率測定

多層膜厚解析（5層）

光学定数解析（n：屈折率、k：消衰係数)

■ 半導体ウエハ（レジスト、SOI、SiO2など）
■ 光学フィルム（ARフィルム、ITOなど）

	手動タイプ		自動タイプ
対応膜厚	厚膜	薄膜	厚膜	薄膜
サンプルサイズ	200mm × 200mm		φ300mm
測定膜厚範囲（nd）	100nm 〜 40μm	10nm 〜 20μm	100nm 〜 40μm	10nm 〜 20μm
測定波長範囲	400nm 〜 800nm	300nm 〜 800nm	400nm 〜 800nm	300nm 〜 800nm
膜厚精度 *1	±0.5nm	±0.5nm	±0.5nm	±0.5nm
繰り返し性 *2	±0.05nm	±0.03nm	±0.05nm	±0.03nm
測定時間	0.1s 〜 10s 以内		0.1s 〜 10s 以内
スポット径	約φ 1.2mm		約φ 1.2mm
マッピング測定	不可	不可	可	可

　*1 VLSI社膜厚スタンダードのシリコン酸化膜の膜厚が約100ｎｍの試料に対して、測定保証書記載の測定保証値範囲
　*2 試料の同一ポイントを繰り返し測定したときの拡張不確かさ（包含係数2.1）