絶対反射率測定

多層膜厚解析（10層）

光学定数解析（n：屈折率、k：消衰係数)

■ 多層膜
■ 屈折率傾斜
■ 非干渉層
■ 超格子構造
■ 異方性
　

■ 半導体ウエハ（レジスト、SOI、SiO2など）
■ 光学フィルム（ARフィルム、ITOなど）

対応膜厚	標準	薄膜
サンプルサイズ	200mm × 200mm × 5mm （厚さ）
測定膜厚範囲（nd）	100nm 〜 40μm	10nm 〜 20μm
測定波長範囲	450nm 〜 780nm	300nm 〜 800nm
膜厚精度 *1	±0.2nm 以内	±0.2nm 以内
繰り返し性 *2	0.1nm 以内	0.1nm 以内
測定時間	0.1s 〜 10s 以内
スポット径	約φ 3mm
寸法（WDH）	280(W) × 570(D) ×350(H) mm
重量	約 24kg

　*1 VLSI社膜厚スタンダードのシリコン酸化膜の膜厚が約100ｎｍの試料に対して、測定保証書記載の測定保証値範囲
　*2 試料の同一ポイントを繰り返し測定したときの拡張不確かさ（包含係数2.1）