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反射分光膜厚計 FE-3000 反射分光膜厚計の測定項目反射分光膜厚計の測定対象反射分光膜厚計の仕様反射分光膜厚計の測定例
光干渉式膜厚計 -薄膜から厚膜まで- 反射分光膜厚計 FE-3000
反射分光膜厚計の特長
紫外から近赤外域の反射光により、多層膜の膜厚測定・光学定数解析が可能な光干渉式膜厚計です。
分光法の採用により、非接触・非破壊かつ高精度で再現性の高い膜厚測定ができます。
広い波長域に対応(190nm〜1100nm)しています。
薄膜から厚膜まで幅広い測定範囲に対応しています。(1nm〜250μm)
微小領域の測定を実現します。
反射分光膜厚計の測定項目
絶対反射率測定
多層薄膜解析
膜物性解析(n:屈折率、k:消衰係数)
反射分光膜厚計の測定対象
FPD
 ・LCD、TFT、有機EL
半導体、複合半導体
 ・Si半導体、半導体レーザ、強誘電体
データストレージ
 ・DVD、磁気ヘッド
光学材料
 ・フィルタ、反射防止膜
FPD
 ・LCD、TFT、有機EL
フィルム
 ・ARフィルム
その他
 ・建材
反射分光膜厚計の仕様
  標準タイプ 厚膜対応タイプ
測定レンジ 1 nm 〜 40 μm 0.8 μm〜 250 μm
測定波長範囲 190 nm 〜 1100 nm 750 nm 〜 850 nm
検出器 電子冷却型フォトダイオードアレイ 512ch
電子冷却型CCDエリアイメージセンサ 512ch
電子冷却型フォトダイオードアレイ 512ch
光源 D2/I2(紫外-可視仕様)、
D2(紫外仕様)、I2(可視仕様)
I2(可視仕様)
電源 AC100V±10V 750VA (自動ステージ仕様)
寸法(WDH) 481(W) × 770(D) × 714(H) mm (自動ステージ仕様、本体部)
重量 約 96kg (自動ステージ仕様、本体部)
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